customized硅片腐蚀清洗机

1. 产品概述：

主要适用于对 2 英寸至 8 英寸的硅片进行腐蚀清洗，以满足半导体制造等相关域对硅片表面处理的严格要求。

2. 设备应用：

显影制程，蚀刻（微蚀刻）制程，去光阻清洗制程，去蜡（胶）清洗制程，精密清洗制程，光罩去光阻清洗制程。

3. 设备特点：

适用对象：蓝宝石晶片、砷化镓晶片、碳化硅晶片、其它衬底基片

基本规格：机台封面 聚丙烯磁白PP板材（厚度≧10mm）Or China SUS板材（厚度≧2mm）机台主机强度结构 整体骨架表面喷涂处理Or China SUS矩形材（厚度≧2mm）机台视窗透明、抗静电之聚氯乙烯PVC（厚度≧5mm） Or China 钢化玻璃（厚度≧5mm）

选配模块： 1.腐蚀液恒温系统

2.腐蚀液循环过滤系统

3.超（兆）声系统

4.全自动供液系统

5.更全面的全自动烘干系统

6.消防系统

7.可结合客户端通讯协定资料储存、CIM系统、资料分析储存建立管理

机台特点： 1.蚀刻工艺自动补药液保证了工艺槽在运行过程中浓度的稳定性

2.QDR冲洗模块非常见排序式，可根据制程工艺设定

3.集成自动烘干系统

4.管路系统、电气控制系统、伺服电机及丝杠导轨等关键核心部件均采用进口标准产品，配置模组化，维护保修便利，非期货库存品工厂内均建立安全存量

5.全自动化控制，几何曲线加减速运动，冲击小，运动平稳，机械臂定位精度高

6.多别用户工艺数据库，可供用户使用和存储

7.作业区内有害气体多种安全主动及被动保护相结合，保证操作人员作业环境及人声安全

8.客制化设计能力佳，高设计能力满足客户制程工艺需要

机械臂装置：1.Robo的工艺路径种N种（设备出厂载入PLC内）

2.机械手传送定位精度≦ 0.3mm

3.机械臂走向后位移一对一

4.转向、后、左右、上下位移一对四

5.全程转向左右、后、上下位移一对多槽等